El primer equipo de producción en masa para la limpieza de ácido hidrofluorico en China se trasladó con éxito a la fábrica de paneles.

La limpieza del ácido hidrofluorico es un enlace clave en el proceso de visualización. Su efecto de limpieza afecta directamente el rendimiento final, la eficiencia y la estabilidad de la estructura del dispositivo, y está relacionado con la tasa de rendimiento del producto final. La limpieza del ácido hidrofluorico no solo elimina las impurezas en la superficie de la capa activa, sino que también pasiva la superficie, reduciendo así la capacidad de adsorción de las impurezas de la interfaz. Los requisitos para la limpieza de la superficie son muy estrictos y teóricamente no permiten la presencia de partículas, iones metálicos u adhesivos orgánicos. Unidas, las capas de vapor de agua y óxido requieren planitud a nivel atómico en la superficie para garantizar la confiabilidad del proceso del proceso de postprocesamiento.